X光疊對量測技術

技術內容

以反射式X光散射技術量測2奈米前段製程次奈米級疊對，X光短波長之特性，可以同時解決傳統光學無法穿透金屬材料以及光學繞射極限的問題，提供製程線上非破壞式的量測方法。量測上採用一次性收取多階層X光散射訊號的方式，大幅降低量測所需的時間，並透過同時分析多階層X光散射訊號，提供次原子級的量測精確度。
 

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單位：量測技術發展中心
姓名：柳君諭
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