智能系統應用
EUV計量標準
- 技術特色
- EUV分光響應校正系統為臺灣第一套EUV計量標準系統, 應用於EUV曝光劑量評估, 使晶片廠更能掌握EUV曝光機內晶圓放置處之實際曝光劑量, 簡化曝光機參數調校流程, 進而達成節能之效。
技術內容
因應半導體先進微影技術發展,建立臺灣第一套EUV分光響應校正系統,,並建立光偵測器之光輻射特性評估量測技術,可提供 EUV 光偵測器之光輻射計量標準。本技術可應用於EUV曝光劑量評估, 使晶片廠更能掌握曝光機晶圓製程現場之實際曝光劑量。本技術將光輻射標準由 UV 推展至 EUV,新開發光輻射標準之波長範圍為 10 nm 至 20 nm,使輻射響應標準傳遞於 EUV 光偵測器,以滿足目前半導體產業EUV 微影製程檢測設備之計量標準需求。單位:量測技術發展中心
姓名:莊宜蓁
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